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真空金屬鍍膜
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超硬鍍膜
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光學鍍膜
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Plasma treatment
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Vacuum Components
VERA 900
VERA 1400
DREVA LAB 450
ASTA 2800
現有客戶參考資料
表面處理
DREVA
LAB
450
通用型的
DREVA
LAB
450
系統展現了
DREVA
系列更進一步的應用，而且被特別設計來作為光學及電子鍍膜。此系統非常重要的優點是提供了廣泛的配備設施，所以它擁有更多鍍膜應用方式，甚至是鍍膜空間的充電。
簡易的操作和快速更換配備的特性更增加此系統的價值。
這個打開的真空腔體呈現了合適的配備：
電子束槍、濺鍍裝置、熱能蒸發器和膜厚測量儀器 (上圖)
熱能蒸発器和膜厚測量儀器 (左圖)
在上圖中的真空容，行星旋轉傳動帶動四個托盤，它可以承載四個底材並可加溫到
600 °C
。
Field of application
：應用範疇
研究開發
視覺光學
照明技術
電磁式保護層
感知技術
光束分離 / 過濾
攝影工業
雷射科技
電子顯微鏡的準備
接觸準備
Basic Equipment：
被應用來加熱及冷却的不銹鋼容器
門可蓋住整個交叉部位
門上裝置有觀察鏡
遮敝式法蘭片裝置在容器邊牆上作為另外使用搭配，它可以給一或二個樣品作固定用 (DN160 或依客户須求).
架上附旋轉遮蓋片
真立式控制系統 (19” 到其他高度)
無油真空幫浦設備配合不同糸列渦卷式幫浦和渦輪分子幫浦. 濺鍍流程須在容器上搭配吸引節流活門閥.
前段真空和高度真空測量設備
407
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36
路
2
號
1F
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FAX：886-2355-2457
